VacuTEC-5050 标准型真空等离子设备

产品特征:

·安装方便 ·使用简单 ·处理速度快 ·真空度 ·可接入辅助气体 ·过程控制 ·低成本处理方式

该设备的真空腔体与智能集成等离子电极组合实现了在0.1-- 3Mbar状态下等离子体的精准放电，同时处理时间也很短，一般状态下针对不同的材料有不同的组合方案处理时间一般控制在20-120秒左右。

VacuTEC2020真空等离子处理设备具有操作简单、生产加工速度快等优点。处理过程中可以加入像氩和氧气等辅助气体来提升表面处理效果，但在大多数情况下，因为高功率的等离子体放电一般不需要气体来辅助参与。

VacuTEC2020采用先进的Tantec主机HV-X系列作为电源，特别设计的高频高压变压器为等离子体电极提供了强大的功率输出。

Tantec不仅有标准的真空技术设备，也有定制设计的设备。真空技术定制机器是专门以客户标准开发的来100%适应客户的生产线。

特点：
·安装简便 仅需连接电源和压缩空气。
·处理速度快 高效的输出功率可以实现不同的材料在20-120秒之内即可完成快速处理。
·维护简单 本设备安装方便，操作简单，便于维护。
·腔体门设计 采用铰链连接加视窗设计方案。
·适用范围 可以适用于导体和非导体的任何材料表面。
·低成本处理工艺 几乎不需要任何辅助气
·处理过程监控 整个处理过程HV-X主机与PLC实时监控，所有的参数都显示在触摸屏上。
·真空度 针对于不同的材料等离子设备释放区域在0.1-3Mba之间可以随意设定。
·辅助气体 处理过程中可以加入像氩气、氧气、氮气的辅助气体，但一般情况下不需要。