VacuTEC 客制化真空腔体等离子设备

产品特征:

·安装及使用简单 ·处理速度快 ·标准或客制化的处理仓 ·真空度 ·工艺气体 ·进程控制 ·节约成本 ·真空压力下等离子处理 ·独特设计的仓门

当真空处理仓内的压强为2至12mbar,接近真空时，通过等离子电极发生的放电离子作用到物体表面，对其进行处理。处理的周期一般很短，根据产品材质不同，时间在2-120s之间。

VacuTEC操作简单、可靠性强、处理速度快。处理过程中采用的工艺气体也可以是氩气、氧气等气体，但是大多数情况下，因为采用常规的空气也可以产生强大的能量，无需使用这些工艺气体，就可以达到满意的处理效果。

Tantec采用先进的HV-X系列放电发生器，配备的变压器也是根据等离子的电极而专门设计的。

特点：
·安装及使用简单 连接电源和压缩空气装置
·处理速度快 根据材料性质以及功率不同，处理时间为20-180s。
·标准或客制化的处理仓 处理仓和托盘可根据不同应用进行设计。
·真空度 根据应用不同，在1-12mbar条件下可产生等离子放电。
·工艺气体 可使用氧气和氩气等工艺气体，但是大部分情况下是没必要的。
·进程控制 等离子处理进程由HV-X系列放电发生器和PLC装置控制。所有参数在触摸板上均有显示（标准-proface触摸屏）。
·节约成本 功率消耗低，无需工艺气体，成本低，是改善物体表面湿润性和粘合性的最佳解决方案。
·真空压力下等离子处理 可处理导电和非导电的物体表面。
·独特设计的仓门 标准的仓门可手动或自动打开。